3)第308章 生气的林晓_从全能学霸到首席科学家
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  满意的话,咱们今天的议程就往后推推,然后你说说你的想法,毕竟咱们今天的会议也不是就要商量个结论出来嘛,以后肯定还要开许多会的。”

  马高亮是场中最高级别的人了,推迟这些议程什么的都完全没有问题。

  而听到他这么说,林晓也就索性站了起来,然后说道:“我没有其他想法,我现在的想法就是,集中力量办大事。”

  “我们现在搞出了光刻机,解决了光刻机的问题,但是工艺呢?”

  “现在我们只搞出了5nm的工艺,但是现在市场上常见芯片工艺还有7nm、10nm,12nm,华芯国际有14nm工艺了,前面的这些工艺,同样十分重要。”

  “根据光刻机分辨率的公式,CD=K1*λ/NA,我们的X光刻机凭借着X光更加短的波长,我们研究工艺其实要比他们用EUV和DUV研究工艺更加简单一些。”

  “就像DUV做出的14nm芯片,实际上经过的曝光次数相当之多,这也就导致他们的实际工艺相当复杂,但我们的X光刻机就能完全避免这一点。”

  “用游戏里面的打boss来比喻的话,也就相当于他们的光刻机是一个普通的武器,他们想要打赢boss的话,就要发挥更多技巧,但我们的X光刻机是一个更加厉害的武器,我们不需要研究特别复杂的技巧,一切都可以简化而。”

  “但是,我们也不能就不研究技巧了,不然的话,我们还是打不了BOSS,所以,我的建议就是,我们成立一个类似台积电的公司,以后专门研究X光刻机工艺,并且承接芯片代工厂的工作。”

  “至于生产X光刻机的公司也单独成立一个,继续研究能够提高X光刻机性能的技术。”

  “你们想要分利益,我现在就给你们准备了两个公司出来,让你们分配。”

  “但是,”说到这,林晓看向了在场的这些人,“我会强烈要求,你们所赚取的利润,除了维持公司运行的必要资金外,以及用作给科研人才的奖金之外,剩下来的钱,至少50%都需要用到研发投入中去。”

  “我不担心这两家公司会没钱赚,我们的X光刻机,现在绝对是比EUV光刻机更好的光刻机,因为我们不需要掩膜版,我们使用的是数字掩膜版,这将为那些芯片设计公司剩下一大笔成本,所以他们必然选择我们的X光刻机,未来X光刻机将完全不需要愁销量,第二点,我们的5nm工艺,只会比现在台积电所说的4nm工艺更好,这一点,几天之后在我们即将召开的新闻发布会上,将会对此进行着重的介绍。”

  “所以这两家公司哪怕没有领导者,我也不会担心没钱赚,所以以后这两家公司的领导都必须接受,他们公司赚的钱,至少都有一半

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